Nano X-2000轮廓仪技术原理

NanoX-80003D轮廓测量主要技术参数3D测量主要技术指标（1）：测量模式：PSI+VSI+CSIZ轴测量范围：大行程PZT扫描（300um标配/500um选配）10mm精密电机拓展扫描CCD相机：1920x1200高速相机（标配）干涉物镜：2.5X,5X,10X（标配）,20X,50X,100X(NIKON)物镜切换：5孔电动鼻切换FOV：1100x700um(10X物镜),220x140um(50X物镜)Z轴聚焦：高精密直线平台自动聚焦照明系统：高效长寿白光LED+滤色镜片电动切换（绿色/蓝色）倾斜调节：±5°电动调节横向分辨率：≥0.35μm（与所配物镜有关）3D测量主要技术指标（2）：垂直扫描速度：PSI:0.5%测量精度:PSI:垂直分辨率

轮廓的角度处理:角度处理：两直线夹角、直线与Y轴夹角、直线与X轴夹角点线处理：两直线交点、交点到直线距离、交点到交点距离、交点到圆心距离、交点到点距离圆处理：圆心距离、圆心到直线的距离、交点到圆心的距离、直线到切点的距离线处理：直线度、凸度、LG凸度、对数曲线。白光轮廓仪的典型应用：对各种产品，不见和材料表面的平面度，粗糙度，波温度，面型轮廓，表面缺陷，磨损情况，腐蚀情况，孔隙间隙，台阶高度，完全变形情况，加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。Nano X-2000轮廓仪技术原理物镜是轮廓仪蕞和新的部件， 物镜的选择根据功能和检测的精度提出需求。

NanoX-2000/3000系列3D光学干涉轮廓仪建立在移相干涉测量（PSI）、白光垂直扫描干涉测量（VSI）和单色光垂直扫描干涉测量（CSI）等技术的基础上，以其纳米级测量准确度和重复性（稳定性）定量地反映出被测件的表面粗糙度、表面轮廓、台阶高度、关键部位的尺寸及其形貌特征等。广泛应用于集成电路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技术、材料、太阳能电池技术等领域。使用范围广:兼容多种测量和观察需求保护性:非接触式光学轮廓仪耐用性更强，使用无损可操作性:一键式操作，操作更简单，更方便

NanoX-系列产品PCB测量应用测试案例测量种类◼基板ASoldMask3D形貌、尺寸◼基板ASoldMask粗糙度◼基板A绿油区域3D形貌◼基板A绿油区域Pad粗糙度◼基板A绿油区域粗糙度◼基板A绿油区域pad宽度◼基板ATrace3D形貌和尺寸◼基板B背面PadNanoX-8000系统主要性能▪菜单式系统设置，一键式操作，自动数据存储▪一键式系统校准▪支持连接MES系统，数据可导入SPC▪具备异常报警，急停等功能，报警信息可储存▪MTBF≥1500hrs▪产能:45s/点（移动+聚焦+测量）（扫描范围50um）➢具备Globalalignment&Unitalignment➢自动聚焦范围：±0.3mm➢XY运动速度蕞快NanoX-8000 的XY 平台蕞大移动速度：200mm/s 。

轮廓仪白光干涉的创始人：迈尔尔逊1852-1931美国物理学家曾从事光速的精密测量工作迈克尔逊首倡用光波波长作为长度基准。1881年，他发明了一种用以测量微小长度，折射率和光波波长的干涉仪，迈克尔逊干涉仪。他和美国物理学家莫雷合作，进行了注明的迈克尔逊-莫雷实验，否定了以太de存在，为爱因斯坦建立狭义相对论奠定了基础。由于创制了精密的光学仪器和利用这些仪器所完成光谱学和基本度量学研究，迈克尔逊于1907年获得诺贝尔物理学奖。NanoX-8000隔振系统：集成气浮隔振 + 大理石基石。Nano X-2000轮廓仪技术原理

轮廓仪可用于Oled 特征结构测量，表面粗糙度，外延片表面缺 陷检测，硅片外延表面缺 陷检测。Nano X-2000轮廓仪技术原理

轮廓仪在晶圆的IC封装中的应用：晶圆的IC制造过程可简单看作是将光罩上的电路图通过UV刻蚀到镀膜和感光层后的硅晶圆上这一过程，其中由于光罩中电路结构尺寸极小，任何微小的黏附异物和下次均会导致制造的晶圆IC表面存在缺陷，因此必须对光罩和晶圆的表面轮廓进行检测，检测相应的轮廓尺寸。

白光轮廓仪的典型应用：对各种产品，不见和材料表面的平面度，粗糙度，波温度，面型轮廓，表面缺陷，磨损情况，腐蚀情况，孔隙间隙，台阶高度，完全变形情况，加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。 Nano X-2000轮廓仪技术原理

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